第2条（用語の定義）

この規則において次の各号に掲げる用語の意義は、それぞれ当該各号に定めるところによる。 一 可燃性ガス アクリロニトリル、アクロレイン、アセチレン、アセトアルデヒド、アルシン、アンモニア、一酸化炭素、エタン、エチルアミン、エチルベンゼン、エチレン、塩化エチル、塩化ビニル、クロルメチル、酸化エチレン、酸化プロピレン、シアン化水素、シクロプロパン、ジシラン、ジボラン、ジメチルアミン、水素、セレン化水素、トリメチルアミン、二硫化炭素、ブタジエン、ブタン、ブチレン、プロパン、プロピレン、ブロムメチル、ベンゼン、ホスフィン、メタン、モノゲルマン、モノシラン、モノメチルアミン、メチルエーテル、硫化水素及びその他のガスであつて次のイ又はロに該当するもの（フルオロカーボンであつて経済産業大臣が定めるものを除く。） イ 爆発限界（空気と混合した場合の爆発限界をいう。以下同じ。）の下限が十パーセント以下のもの ロ 爆発限界の上限と下限の差が二十パーセント以上のもの 二 毒性ガス アクリロニトリル、アクロレイン、亜硫酸ガス、アルシン、アンモニア、一酸化炭素、塩素、クロルメチル、クロロプレン、五フッ化ヒ素、五フッ化リン、酸化エチレン、三フッ化窒素、三フッ化ホウ素、三フッ化リン、シアン化水素、ジエチルアミン、ジシラン、四フッ化硫黄、四フッ化ケイ素、ジボラン、セレン化水素、トリメチルアミン、二硫化炭素、ふつ素、ブロムメチル、ベンゼン、ホスゲン、ホスフィン、モノゲルマン、モノシラン、モノメチルアミン、硫化水素及びその他のガスであつて毒物及び劇物取締法（昭和二十五年法律第三百三号）第二条第一項に規定する毒物 三 特殊高圧ガス アルシン、ジシラン、ジボラン、セレン化水素、ホスフィン、モノゲルマン、モノシラン 四 不活性ガス ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、ラドン、窒素、二酸化炭素又はフルオロカーボン（可燃性ガスを除く。） 四の二 特定不活性ガス 不活性ガスのうち、フルオロカーボンであつて、温度六十度、圧力零パスカルにおいて着火したときに火炎伝ぱを発生させるもの 五 第一種保安物件 次に掲げるもの（事業所の存する敷地と同一敷地内にあるものを除く。） イ 学校教育法（昭和二十二年法律第二十六号）第一条に定める学校のうち、小学校、中学校、義務教育学校、高等学校、中等教育学校、高等専門学校、特別支援学校又は幼稚園 ロ 医療法（昭和二十三年法律第二百五号）第一条の五第一項に定める病院 ハ 劇場、映画館、演芸場、公会堂その他これらに類する施設であつて、収容定員三百人以上のもの ニ 児童福祉法（昭和二十二年法律第百六十四号）第七条第一項の児童福祉施設、身体障害者福祉法（昭和二十四年法律第二百八十三号）第五条第一項の身体障害者社会参加支援施設、生活保護法（昭和二十五年法律第百四十四号）第三十八条第一項の保護施設（授産施設及び宿所提供施設を除く。）、老人福祉法（昭和三十八年法律第百三十三号）第五条の三の老人福祉施設若しくは同法第二十九条第一項の有料老人ホーム、母子及び父子並びに寡婦福祉法（昭和三十九年法律第百二十九号）第三十九条第一項の母子・父子福祉施設、職業能力開発促進法（昭和四十四年法律第六十四号）第十五条の七第一項第五号の障害者職業能力開発校、地域における医療及び介護の総合的な確保の促進に関する法律（平成元年法律第六十四号）第二条第四項（第四号を除く。）の特定民間施設、介護保険法（平成九年法律第百二十三号）第八条第二十八項の介護老人保健施設又は障害者の日常生活及び社会生活を総合的に支援するための法律（平成十七年法律第百二十三号）第五条第一項の障害福祉サービス事業（同条第七項の生活介護、同条第十二項の自立訓練、同条第十三項の就労選択支援、同条第十四項の就労移行支援又は同条第十五項の就労継続支援に限る。）を行う施設、同条第十一項の障害者支援施設、同条第二十八項の地域活動支援センター若しくは同条第二十九項の福祉ホームであつて、収容定員二十人以上のもの ホ 文化財保護法（昭和二十五年法律第二百十四号）の規定によつて重要文化財、重要有形民俗文化財、史跡名勝天然記念物若しくは重要な文化財として指定され、又は旧重要美術品等の保存に関する法律（昭和八年法律第四十三号）の規定によつて重要美術品として認定された建築物 ヘ 博物館法（昭和二十六年法律第二百八十五号）第二条に定める博物館及び同法第三十一条第一項により博物館に相当する施設として指定された施設 ト 一日に平均二万人以上の者が乗降する駅の母屋及びプラットホーム チ 百貨店、マーケット、公衆浴場、ホテル、旅館その他不特定かつ多数の者を収容することを目的とする建築物（仮設建築物を除く。）であつて、その用途に供する部分の床面積の合計が千平方メートル以上のもの 六 第二種保安物件 第一種保安物件以外の建築物であつて、住居の用に供するもの（事業所又は販売所の存する敷地と同一敷地内にあるものを除く。） 七 貯槽 高圧ガスの貯蔵設備であつて、地盤面に対して移動することができないもの 八 低温貯槽 大気圧における沸点が零度以下のガスを温度零度以下又は当該ガスの気相部における常用の圧力（通常の使用状態において、当該設備等に作用する圧力（当該圧力が変動する場合にあつては、その変動範囲のうちの最高の圧力）であつて、ゲージ圧力をいう。以下同じ。）が〇・一メガパスカル以下の液体の状態で貯蔵するための貯槽であつて、断熱材で被覆し、又は冷凍設備で冷却することにより貯槽内のガスの温度が常用の温度を超えて上昇しないような措置を講じてあるもの 九 貯蔵能力 貯蔵設備に貯蔵することができる高圧ガスの数量であつて、圧縮ガスの貯蔵設備にあつては次のイの算式により、液化ガスの貯蔵設備にあつては次のロの算式（貯蔵設備が容器である場合には次のハの算式）により得られたもの イ Ｑ＝（１０Ｐ＋１）Ｖ１ ロ Ｗ＝Ｃ１ｗＶ２ ハ Ｗ＝Ｖ２／Ｃ２ これらの式において、Ｑ、Ｐ、Ｖ１、Ｗ、Ｃ１、ｗ、Ｖ２及びＣ２は、それぞれ次の数値を表すものとする。 Ｑ 貯蔵設備の貯蔵能力（単位 立方メートル）の数値 Ｐ 貯蔵設備の温度三十五度（アセチレンガスにあつては、温度十五度）における最高充塡圧力（単位 メガパスカル）の数値 Ｖ１ 貯蔵設備の内容積（単位 立方メートル）の数値 Ｗ 貯蔵設備の貯蔵能力（単位 キログラム）の数値 Ｃ１ 〇・九（低温貯槽にあつては、その内容積に対する液化ガスの貯蔵が可能な部分の容積の比の値） ｗ 貯槽の常用の温度における液化ガスの比重（単位 キログラム毎リットル）の数値 Ｖ２ 貯蔵設備の内容積（単位 リットル）の数値 Ｃ２ 容器保安規則（昭和四十一年通商産業省令第五十号）第二十二条に規定する数値 十 充塡容器 現に高圧ガス（高圧ガスが充塡された後に当該ガスの質量が充塡時における質量の二分の一以上減少していないものに限る。）を充塡してある容器 十一 残ガス容器 現に高圧ガスを充塡してある容器であつて、充塡容器以外のもの 十二 移動式製造設備 製造（製造に係る貯蔵及び導管による輸送を含む。以下同じ。）のための設備（以下「製造設備」という。）であつて、地盤面に対して移動することができるもの 十三 定置式製造設備 製造設備であつて、移動式製造設備以外のもの 十四 ガス設備 製造設備（製造に係る導管を除く。）のうち、製造をする高圧ガスのガス（その原料となるガスを含む。）が通る部分 十五 高圧ガス設備 ガス設備のうち、高圧ガスが通る部分 十六 処理設備 圧縮、液化その他の方法でガスを処理することができる設備であつて、高圧ガスを製造するもの 十七 減圧設備 高圧ガスを高圧ガスでないガスにする設備 十八 処理能力 処理設備又は減圧設備の処理容積（圧縮、液化その他の方法で一日に処理することができるガスの容積（温度零度、圧力零パスカルの状態に換算したものをいう。以下同じ。）をいう。以下同じ。）であつて、次に掲げる処理設備又は減圧設備の区分に応じ、それぞれに掲げるところにより得られたもの イ ポンプ Ｑ１＝Ｗ１×２４×ρ×２２．４／Ｍ ロ 圧縮機 Ｑ２＝Ｗ２×２４ ハ 蒸発器 Ｑ３＝Ｗ３×２４×２２．４／Ｍ ニ 凝縮器 Ｑ４＝Ｗ４×２４×２２．４／Ｍ ホ 反応器 （イ） 反応器において高圧ガスが消費される場合 Ｑ５＝ｑ５ （ロ） （イ）に該当する場合を除き、反応器の出口側に処理設備（減圧弁を除く。）が接続される場合 Ｑ６＝ｑ６ （ハ） （イ）に該当する場合を除き、反応器の出口側に減圧設備（処理設備である減圧弁を含む。）が接続される場合 Ｑ７＝ｑ７ ヘ 精留塔又は分留塔 Ｑ８＝Ｑ３＋Ｑ４ ト その他処理設備 （イ） アキュムレータ Ｑ９＝Ｖ９×１０Ｐ９ （ロ） バッチ処理釜 Ｑ１０＝Ｖ１０×１０Ｐ１０×ｎ （ハ） 内部冷却器付貯槽 Ｑ１１＝Ｖ１１×１０Ｐ１１ （ニ） 加圧蒸発器付貯槽 Ｑ１２＝（１０Ｐ１２＋１）×０．９Ｖ１２ （ホ） 加圧蒸発器付低温貯槽 ① 気化ガスを取り出す場合 Ｑ１３＝Ｗ１３／（２２．４／Ｍ×ρ×１０００）×（１０Ｐ１３＋１）×２４ ② 液化ガスを取り出す場合 Ｑ１３＝（１０Ｐ１３＋１）×０．９Ｖ１３ （ヘ） 加圧蒸発器付容器 Ｑ１４＝（１０Ｐ１４＋１）×０．９Ｖ１４ （ト） 処理設備である減圧弁 Ｑ１５＝０ チ 減圧設備 Ｑ１６＝ｑ１６ リ 水電解水素発生昇圧装置（水の電気分解により水素及び酸素を発生し、かつ、発生した水素のみの圧力を上昇する装置をいう。以下同じ。） Ｑ１７＝Ｗ１７×２４ 備考 これらの式において、Ｑ１、Ｗ１、ρ、Ｍ、Ｑ２、Ｗ２、Ｑ３、Ｗ３、Ｑ４、Ｗ４、Ｑ５、ｑ５、Ｑ６、ｑ６、Ｑ７、ｑ７、Ｑ８、Ｑ９、Ｖ９、Ｐ９、Ｑ１０、Ｖ１０、Ｐ１０、ｎ、Ｑ１１、Ｖ１１、Ｐ１１、Ｑ１２、Ｐ１２、Ｖ１２、Ｑ１３、Ｗ１３、Ｐ１３、Ｖ１３、Ｑ１４、Ｐ１４、Ｖ１４、Ｑ１５、Ｑ１６、ｑ１６、Ｑ１７及びＷ１７は、それぞれ次の数値を表すものとする。 Ｑ１ ポンプの処理能力の数値（単位 立方メートル毎日） Ｗ１ ポンプの能力の数値（ポンプの能力は、ポンプの性能曲線における最大稼働した場合の吐出量の値とする。）（単位 リットル毎時） ρ 液密度の数値（液密度は、常用の温度の範囲において最大となる値とする。）（単位 キログラム毎リットル） Ｍ 分子量の数値 Ｑ２ 圧縮機の処理能力の数値（単位 立方メートル毎日） Ｗ２ 圧縮機の能力の数値（圧縮機の能力は、圧縮機の性能曲線における最大稼働した場合の吐出量の値とする。）（単位 立方メートル毎時） Ｑ３ 蒸発器の処理能力の数値（単位 立方メートル毎日） Ｗ３ 蒸発器の公称能力の数値（単位 キログラム毎時） Ｑ４ 凝縮器の処理能力の数値（単位 立方メートル毎日） Ｗ４ 凝縮器の公称能力の数値（単位 キログラム毎時） Ｑ５ 反応器の処理能力の数値（単位 立方メートル毎日） ｑ５ 当該反応器に係る高圧ガスの流入量の数値（単位 立方メートル毎日） Ｑ６ 反応器の処理能力の数値（単位 立方メートル毎日） ｑ６ 反応器の出口側に接続される処理設備（減圧弁を除く。）の処理能力の数値（単位 立方メートル毎日） Ｑ７ 反応器の処理能力の数値（単位 立方メートル毎日） ｑ７ 反応器の出口側に接続される減圧設備（処理設備である減圧弁を含む。）に係る高圧ガスの流入量の数値（単位 立方メートル毎日） Ｑ８ 精留塔又は分留塔の処理能力の数値（単位 立方メートル毎日） Ｑ９ アキュムレータの処理能力の数値（単位 立方メートル毎日） Ｖ９ アキュムレータの内容積の数値（単位 立方メートル） Ｐ９ アキュムレータの最高圧縮圧力の数値（単位 メガパスカル） Ｑ１０ バッチ処理釜の処理能力の数値（単位 立方メートル毎日） Ｖ１０ バッチ処理釜の内容積の数値（単位 立方メートル） Ｐ１０ バッチ処理釜の最高圧縮圧力の数値（単位 メガパスカル） ｎ 最高圧縮圧力による処理で一日に可能な最高処理回数（単位 回） Ｑ１１ 内部冷却器付貯槽の処理能力の数値（単位 立方メートル毎日） Ｖ１１ 内部冷却器付貯槽の内容積の数値（単位 立方メートル） Ｐ１１ 内部冷却器付貯槽の常用の圧力の数値（単位 メガパスカル） Ｑ１２ 加圧蒸発器付貯槽の処理能力の数値（単位 立方メートル毎日） Ｐ１２ 加圧蒸発器付貯槽の常用の圧力の数値（単位 メガパスカル） Ｖ１２ 加圧蒸発器付貯槽の内容積の数値（単位 立方メートル） Ｑ１３ 加圧蒸発器付低温貯槽の処理能力の数値（単位 立方メートル毎日） Ｗ１３ 高圧ガスの取り出し部に接続される送ガス用蒸発器の公称能力の数値（単位 立方メートル毎時） Ｐ１３ 加圧蒸発器付低温貯槽の常用の圧力の数値（単位 メガパスカル） Ｖ１３ 加圧蒸発器付低温貯槽の内容積の数値（単位 立方メートル） Ｑ１４ 加圧蒸発器付容器の処理能力の数値（単位 立方メートル毎日） Ｐ１４ 加圧蒸発器の常用の圧力の数値（単位 メガパスカル） Ｖ１４ 容器の内容積の数値（単位 立方メートル） Ｑ１５ 処理設備である減圧弁の処理能力の数値（単位 立方メートル毎日） Ｑ１６ 減圧設備の処理能力の数値（単位 立方メートル毎日） ｑ１６ 当該減圧設備に係る高圧ガスの流入量の数値（単位 立方メートル毎日） Ｑ１７ 水電解水素発生昇圧装置の処理能力の数値（単位 立方メートル毎日） Ｗ１７ 水電解水素発生昇圧装置の能力の数値（水電解水素発生昇圧装置の能力は、水電解水素発生昇圧装置の性能曲線における最大稼働した場合の水素製造量の値とする。）（単位 立方メートル毎時） 十九 第一種設備距離 次の図における貯蔵能力（単位 圧縮ガスにあつては立方メートル、液化ガスにあつてはキログラム）又は処理能力（単位 立方メートル）に対応する距離（単位 メートル）であつて、可燃性ガス及び毒性ガスの貯蔵設備、処理設備及び減圧設備にあつてはＬ１、酸素のものにあつてはＬ２、その他のものにあつてはＬ３によつて表されるもの 備考 １ Ｘは、貯蔵能力（単位 圧縮ガスにあつては立方メートル、液化ガスにあつてはキログラム）又は処理能力（ディスペンサーにあつては、当該設備に接続する処理設備の処理能力をいう。単位 立方メートル）を表わすものとする。 ２ Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３及びＬ４とＸとの関係は、それぞれ次の表のとおりとする。 Ｘ ０≦Ｘ＜１００００ １００００≦Ｘ＜５２５００ ５２５００≦Ｘ＜９９００００ ９９００００≦Ｘ Ｌ Ｌ１ １２√２ （３／２５）√（Ｘ＋１００００） ３０（可燃性ガス低温貯槽にあつては、（３／２５）√（Ｘ＋１００００）） ３０（可燃性ガス低温貯槽にあつては、１２０） Ｌ２ ８√２ （２／２５）√（Ｘ＋１００００） ２０（可燃性ガス低温貯槽にあつては、（２／２５）√（Ｘ＋１００００）） ２０（可燃性ガス低温貯槽にあつては、８０） Ｌ３ （１６／３）√２ （４／７５）√（Ｘ＋１００００） １３（１／３） １３（１／３） Ｌ４ （３２／９）√２ （８／２２５）√（Ｘ＋１００００） ８（８／９） ８（８／９） 二十 第二種設備距離 前号の図における貯蔵能力（単位 圧縮ガスにあつては立方メートル、液化ガスにあつてはキログラム）又は処理能力（単位 立方メートル）に対応する距離（単位 メートル）であつて、可燃性ガス及び毒性ガスの貯蔵設備、処理設備及び減圧設備にあつてはＬ２、酸素のものにあつてはＬ３、その他のものにあつてはＬ４によつて表されるもの 二十一 第一種置場距離 次の図における容器置場の面積（単位 平方メートル）に対応する距離（単位 メートル）であつて、ｌ１によつて表されるもの 備考 １ ｘは、容器置場の面積（単位 平方メートル）を表わすものとする。 ２ ｌ１、ｌ２、ｌ３及びｌ４とｘとの関係は、それぞれ次の表のとおりとする。 ｘ ０≦ｘ＜８ ８≦ｘ＜２５ ２５≦ｘ ｌ ｌ１ ９√２ ４．５√ｘ ２２．５ ｌ２ ６√２ ３√ｘ １５ ｌ３ ０ ２．２５√ｘ １１．２５ ｌ４ ０ １．５√ｘ ７．５ 二十二 第二種置場距離 前号の図における容器置場の面積（単位 平方メートル）に対応する距離（単位 メートル）であつて、ｌ２によつて表されるもの 二十二の二 コールド・エバポレータ 液化アルゴン、液化炭酸ガス、液化窒素又は液化酸素の加圧蒸発器付低温貯槽（二重殻真空断熱式構造のものに限る。）を有する定置式製造設備（加圧蒸発器付低温貯槽以外の処理設備（第十八号ハの処理設備を除く。）を有するものを除く。） 二十三 圧縮天然ガススタンド 圧縮天然ガスを燃料として使用する車両に固定した燃料装置用容器に当該圧縮天然ガスを充塡するための処理設備を有する定置式製造設備 二十四 液化天然ガススタンド 液化天然ガスを燃料として使用する車両に固定した燃料装置用容器に当該液化天然ガスを充塡するための処理設備を有する定置式製造設備 二十五 圧縮水素スタンド 圧縮水素を燃料として使用する車両に固定した燃料装置用容器に当該圧縮水素を充塡するための処理設備を有する定置式製造設備 二十六 移動式圧縮水素スタンド 圧縮水素を燃料として使用する車両に固定した燃料装置用容器に当該圧縮水素を充塡するための処理設備を有する移動式製造設備 ２ 前項に規定するもののほか、この規則において使用する用語は、法において使用する用語の例によるものとする。